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Atmosphärendruck-Plasmaverfahren zur Kostenreduzierung in der Silizium-Photovoltaik -

  • admin
  • 23. Mai 2008 um 18:20
1. offizieller Beitrag
  • admin
    Administrator
    Reaktionen
    19
    Beiträge
    3.053
    • 23. Mai 2008 um 18:20
    • Offizieller Beitrag
    • #1

    Im Fraunhofer-Institut für Werkstoff- und Strahltechnik IWS in Dresden werden aktuell Plasmaprozesse zum Ätzen und Beschichten entwickelt, die nicht im Vakuum sondern bei Atmosphärendruck ablaufen. Ziel der Entwicklungen ist es,

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