Fraunhofer IWS Dresden präsentiert photokatalytisch aktive Schichten für großflächige

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    • Offizieller Beitrag

    Das Fraunhofer IWS hat ein neues Verfahren zur chemischen Dampfphasenabscheidung (AP-CVD) von Oxid-Schichten bei Atmosphärendruck und niedriger Temperatur entwickelt. Es ermöglicht eine kontinuierliche Großflächenbeschichtung von Bändern ebenso wie von ebenen

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